根上工業株式会社　製造技術

お客様のご要望に応じた様々な樹脂を、
重合技術、後処理技術を駆使し製造しております。
製造設備は少量多品種に対応した設計になっています。


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懸濁重合法による
メタクリル酸エステル、スチレン系の

真球状ポリマ－粒子

・分子量(Ｍｗ)１万～１００万
・Ｔｇ２０～１２０℃
・残存モノマ－が少ない
・平均粒子径５μｍ～１ｍｍ

可能な技術

・粒度分布・架橋密度・屈折率・分子量分布		のコントロール
・官能基の導入　　カルボキシル基（カルボン酸基）　　ヒドロキシル基（水酸基）　　グリシジル基（エポキシ基）など・ポリマーアロイ　　ブロック重合、グラフト重合、含浸重合

懸濁重合法によるウレタン、
メタクリル酸エステル系の
真球状架橋ポリマー微粒子

・凝集のない一次粒子
・平均粒子径２～５０μｍ
・溶剤系へも水系へも容易に再分散可能

可能な技術

・硬さの調整（ソフトからハードまで）
・各種薬剤（無機系、有機系）の含有
　　染料、顔料
　　香料
　　ガラス粉、セラミック紛、砥材
　　パラフィン類
・表面に官能基導入（水酸基など）
・水湿体（ウェットケーキ）や水分散での供給

懸濁重合法による
アクリル酸エステル系のポリマー

・分子量(Ｍｗ)　２０万～１５０万
・Ｔｇ－６０～９０℃
・残存モノマ－が少ない

可能な技術

・柔軟性、粘着性のポリマーをドライレジン（ラバー）として供給
・溶液品（溶剤、モノマー）での供給
・分子量分布のコントロール
・官能基の導入
　　カルボキシル基（カルボン酸基）
　　ヒドロキシル基（水酸基）
　　グリシジル基（エポキシ基）など

有機イソシアネートと
活性水素化合物の重付加反応からなるウレタンアクリレート

可能な技術

・高いウレタン結合濃度を有する高分子量体の分子量規制
・高純度化（錫、アルカリ金属、ハロゲンなどの低減）
・低粘度から高粘度までの対応
・官能基の導入
　　イソシアネート基
　　カルボキシル基（カルボン酸基）
　　ヒドロキシル基（水酸基）
　　グリシジル基（エポキシ基）など

可能な技術

・重合
　　乳化重合法
　　溶液重合法
　　塊状重合法
　　沈殿重合法　
・乾燥（微粒子からブロック状のものまで可能）
・溶解（高粘度対応可）
・溶液へのフィラー配合、分散
・溶液からの粉体化
・エマルジョンからの固形化（塩析）
・ポリマーの精製